石墨烯它一种半导体材料，它的性能是非常优异的，比硅的特性要好的很多，电子在石墨烯中的运行速度能够达到光速的1/300，比在其他介质中的运行速度不能低反而要高出非常多，并且产出的热量并不是很多。
这一点毋庸置疑就是石墨烯的发展前景是非常好的，但这些性能都是基于其微观的纳米尺度，如果直接用将会是非常大的困难。所以面对这样的困难，把纳米尺度的石墨烯制备成宏观的薄膜材料并且保持其纳米效应。采用化学还原氧化石墨烯并采用真空抽滤的方法制备石墨烯薄膜，结果显示用该方法制备的20微米薄膜，适合大规模工业制备。
与此同时，针对石墨烯薄膜与二氧化硅界面接触热阻大的困扰，如何解决这中困扰呢就是采用在石墨烯薄膜与二氧化硅界面引入功能化分子的方法。这种方法可以把困扰的难度降到最低。
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